Additel 783 Avancerad tryckcontroller
Additel 783 Avancerad tryckcontroller
Additel 783 Avancerad tryckcontroller
Additel 783 Avancerad tryckcontroller

Additel 783 Avancerad tryckcontroller

Rea-pris0 kr
Art.nr: ADT783
Antal:

Avancerad tryckcontroller för högsta noggrannhet och tillförlitlighet

Additel 783 är en kraftfull och avancerad tryckcontroller som kombinerar automatisk tryckstyrning med exakt mätning i en kompakt och användarvänlig enhet. Den är utformad för att möta de höga kraven inom kalibrering, forskning och industriella applikationer där noggrannhet, snabbhet och stabilitet är avgörande. Med stöd för ett brett tryckområde – upp till 70 MPa (10 000 psi) – och tillgång till både gauge- och absoluttryck, är Additel 783 ett mångsidigt verktyg för allt från känslig sensorkalibrering till robust processautomation. Intuitivt gränssnitt och fjärrstyrningsmöjligheter gör att arbetet blir både effektivt och exakt.

Stabil prestanda i krävande tryckapplikationer

Additel 783 är byggd för att leverera exceptionellt exakt tryckstyrning med en total osäkerhet så låg som 0,008 % FS. Enheten finns i flera olika konfigurationer, vilket gör det möjligt att välja rätt modell för det specifika tryckområdet – från 1 MPa till 70 MPa.

Den interna mottryckstekniken och automatiska ventilstyrningen ger snabb och stabil tryckreglering även vid höga tryck, medan den integrerade pekskärmen ger enkel åtkomst till funktioner som testsekvenser, datalogging och realtidsövervakning.

Funktioner:

  • Tryckområde: upp till 70 MPa (10 000 psi)
  • Noggrannhet: ned till 0,008 % FS
  • Automatisk tryckkontroll med snabb respons och hög stabilitet
  • Tillgänglig i gauge-, absolut- och differentialtryckmodeller
  • 7-tums pekskärm med intuitivt gränssnitt
  • Stöd för testsekvenser och automatiserade kalibreringsrutiner
  • Intern datalogging: upp till 10 miljoner mätvärden
  • USB, Ethernet och Wi-Fi för kommunikation och fjärrstyrning
  • Kompatibel med Additel/Land software för systemintegration
  • Robust design – lämpad för både labb och fält